Märkte Flexible e-beam Lösungen für viele Anwendungsgebiete

Märkte Flexible e-beam Lösungen für viele Anwendungsgebiete

Märkte

Elektronenstrahl-Lithographie ist eine Schlüsseltechnologie sowohl für die Halbleiterfertigung als auch die Mikro- und Nanoprozessierung. Die Elektronenstrahl-Belichtungsanlagen von Vistec zeichnen sich durch das Formstrahl Prinzip, sowie ihre hohe Automatisierung und Flexibilität aus. Dadurch sind sie bestens für den Einsatz in Angewandter Forschung und industrieller Produktion geeignet, da es insbesondere in diesen Bereichen auf effiziente und reproduzierbare Belichtung kompletter Substrate oder Lose mit hoher Qualität ankommt.

Die Anwendungen reichen von Mikro-und Nanoelektronik über integrierte Optik und Photonik bis hin zur Nano- und Biotechnologie. Beliebige Layouts können mit hoher Auflösung direkt auf Wafer oder Masken geschrieben werden, wie z.B. elektronische Schaltkreise, diffraktive optische Elemente oder Metamaterialien.

Effiziente Datenprozessierung & optimierte Schreibstrategien eröffnen neue Einsatzgebiete, wie zum Beispiel im Bereich AR/VR (Augmented/Virtual Reality).

Die Fähigkeit zum maskenlosen Schreiben mit dem Elektronenstrahl erlaubt ein hohes Maß an Flexibilität für die Herstellung neuer Bauelemente, für kleinvolumige Serienproduktion, das Schreiben kritischer Strukturen in Multi-Schicht-Systemen, oder die Herstellung von Templates für die Massenproduktion.

Unsere Lithographie-Systeme werden vor allem in drei Märkten genutzt

Applikationen

  • Luft- und Raumfahrttechnik
  • AR & VR Anwendungen / Metamaterialien / Projektionsbeleuchtung
  • Biosensing / Spektroskopie / funktionalisierte Oberflächen
  • CMOS Anwendungen / Schnelles Prototyping
  • Diffraktive optische Elemente
  • "Early device" Prototyping
  • Forschungsanwendungen
  • Schnelles Prototyping
  • Auftragsfertigungen
  • Funktionalisierte Oberflächen
  • Hologramme / Diffraktive optische Elemente
  • Industrielle Produktion von Verbindungshalbleitern
  • Masken für optische Lithographie
  • Integrierte Optik und Photonik
  • Laser-Gitter
  • Logik & Speicher
  • MEMS / NEMS
  • Metamaterialien
  • Mikro-Optik auf Glass
  • Mikro-Optik
  • Midrange Technologieknoten
  • Mix & Match mit optischer Lithographie
  • Netzinfrastruktur
  • Optische Proximitykorrektur
  • Optoelektronik / Halbleiterlaser
  • Projektionsbeleuchtung
  • Prototyping
  • Quantencomputing / Sensorik / u.a.
  • Quantum Technologie
  • RF Transistorelektronik
  • Direktschreiben auf Silizium
  • Silizium-Photonik
  • Telekommunikation & Datenzentren / Netzwerk-Infrastruktur / Hochfrequenz-Transistor-Elektronik
  • Template-Herstellung
  • Vielfältige Anwendungen im Bereich der Nanostrukturierung

Verbindungs­halbleiter

Beim Direktschreiben auf Verbindungs-Halbleitermaterialien bieten unsere Lithographieanlagen die Zuverlässigkeit und Stabilität, die in 24/7 Produktion benötigt werden. Die Verwendbarkeit verschiedener Substrattypen und vollautomatische Handlings- und Alignmentroutinen ermöglichen eine hohe Flexibilität.

Maske und Glas

Wir beliefern industrielle Hersteller von Masken für die optische Lithographie. Außerdem lassen sich Glassubstrate z.B. für Mikrooptiken in hervorragender Qualität und hoher Genauigkeit mit unseren Anlagen strukturieren. Eine weitere Anwendung ist das Schreiben von Templates zur Massenfertigung kleiner Strukturen wie z.B. Metamaterialien auf großen Flächen.

Angewandte Forschung

Unsere Kunden im Bereich Angewandte Forschung beschäftigen sich mit zahlreichen innovativen Anwendungen. Dazu gehören u.a. Entwicklung und Herstellung von Bauelementen für Quantencomputing, MEMS/NEMS oder Biosensorik oder Lösungen im Bereich Photonik. Flexibilität und die Möglichkeit auch anwendungsrelevante Flächen in sinnvollen Zeiten zu strukturieren sind dafür von großer Bedeutung.

Applikationen

  • III-V Device

    T-Gate (Device Sample) 
    System: Vistec SB250 
    Source: WIN Semiconductors Corp., Taiwan

  • Gratings

    AlGaAs waveguide (DFB Laser) 
    System: Vistec SB250 series 
    Source: Ferdinand Braun Institute, Germany

  • Mask Patterning

    Mask Patterning up to 9 inch
    System: Vistec SB3XX Series
    Source: Photronics MZD GmbH, Germany

  • Mask Patterning

    Multilevel Photomask
    System: Vistec SB350 OS
    Source: Fraunhofer IOF, Germany

  • Biophotonics

    Network-based biocomputation (detail)
    System: Vistec SB254
    Source: Fraunhofer ENAS, Germany

  • 3D Patterning

    3D resist profile
    System: Shaped Beam Series
    Source: Vistec, Germany

  • Semiconductor

    Pillars Ø 500 nm, h: 1.5 μm on 15 μm pedestal
    System: Vistec SB352 HR
    Source: IMS Chips, Germany

  • Optics

    Nano-Imprint Master for optical Metasurface
    System: Vistec SB350 OS
    Source: Fraunhofer IOF, Germany

  • Qubits

    Silicon-based Qubits; 80nm pitch
    System: Vistec SB3050 DW
    Source: Fraunhofer IPMS CNT, Germany

  • Cell Projection

    Cell Projection using 1.5 μm x 0.75 μm cell size
    System: Vistec SB3054
    Source: STMicroelectronics, CEA-LETI, France

  • Resolution Capability

    10 nm lines
    System:Vistec SB3xx
    Source:Vistec

  • Chiral optical structures

    Cell Projection
    System: Vistec SB350 OS
    Source: Fraunhofer IOF

  • Plasmonic metasurfaces

    Cell Projection
    System: Vistec SB350 OS
    Source: IPHT Jena

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