WE UNDERSTAND E-BEAM. Leistungsfähige Elektronenstrahlschreiber mit variablem Formenstrahl

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Wer wir sind und was wir tun

Die Vistec Electron Beam GmbH entwickelt seit mehr als vier Jahrzehnten leistungsfähige Elektronenstrahl-Belichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und die Angewandte Forschung. Basierend auf dem Prinzip des variablen Formstrahls (Variable Shaped Beam / VSB) finden die Anlagen für die verschiedensten direkten Strukturierungen ihre Anwendung, wie z.B. zur direkten Strukturerzeugung auf Silizium- und Verbindungshalbleiter- Wafern, zur Fertigung von Photomasken und bei Anwendungen in der integrierten Optik und Photonik.

Produkte und Service

Vistec entwickelt und produziert Elektronenstrahl-Lithographie Systeme mit 200mm und 300mm Plattformen.

Märkte

Unsere Lithographysysteme mit variablem Formenstrahl finden vorrangig in der Angewandten Forschung, im Masken- und Glass-Substratemarkt sowie in der Halbleiterindustrie Anwendung.

News & Events

Semicon Japan

Die SEMICON Japan ist die führende Veranstaltung, die die Lieferkette der Halbleiterfertigung zusammenbringt, um die neuesten Erkenntnisse, Trends und Innovationen zu präsentieren, während die Branche die digitale Transformation…

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Kontakt

Vistec Electron Beam GmbH

Ilmstrasse 4
07743 Jena
Deutschland

Telefon +49 3641 7998 0
Telefax +49 3641 7998 222

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