Jena, Deutschland – 17. Juni 2026 — Die Vistec Electron Beam GmbH, ein weltweit führender Anbieter von Elektronenstrahl-Lithografiesystemen (E-Beam), wird ihre neuesten Fortschritte in der Elektronenstrahltechnologie auf der 41. European Mask and Lithography Conference (EMLC 2026) vorstellen, die vom 22. bis 24. Juni 2026 im Volkshaus in Jena, Deutschland, stattfindet. Dieses Jahr markiert zudem einen bedeutenden Meilenstein für Vistec: Das Unternehmen feiert sein 30-jähriges Bestehen, das auf mehr als 60 Jahren Erfahrung in der E-Beam-Technologie aufbaut. Im vergangenen Jahr hat Vistec mehrere wichtige Meilensteine erreicht, darunter neue Kundeninstallationen, den Ausbau der globalen Präsenz und kontinuierliche Innovationen in seinen Kerntechnologien der Lithografie. Die Teilnahme des Unternehmens an der EMLC unterstreicht seine innovativen Entwicklungen, die fortschrittliche Halbleiter, Photonik, Mikrooptik, Biosensorik (MEMS/NEMS) und Quantencomputing sowohl für industrielle als auch für fortgeschrittene Forschungsanwendungen ermöglichen.
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