Treffen Sie uns auf der Dreistrahl (EIPBN) vom 29. Mai bis 1. Juni in La Jolla, CA.

Beim Programmpunkt "3C Industrial Highlights“ am 30. Mai um 9.30 Uhr werden wir im Kurzvortrag „Advanced Nanopatterning with Cell Projection Electron Beam Lithography“ vorstellen.

Das vollständige Programm finden Sie hier: Programm